同位素(su)實(shi)驗(yan)器(qi)皿清(qing)洗(xi)流(liu)程（Teflon器(qi)皿、溶(rong)樣(yang)彈(dan)）

內(nei)外；2. 在(zai)幹(gan)凈(jing)的(de)塑(su)料(liao)盆(pen)中(zhong)放(fang)入適量(liang)的(de)自來(lai)水(shui)和表面(mian)活(huo)性(xing)劑(ji)（洗(xi)潔精），攪(jiao)

拌(ban)均勻(yun)起(qi)泡(pao)後(hou)將器(qi)皿放(fang)入(ru)其中(zhong)，用(yong)無(wu)塵布逐(zhu)個(ge)仔(zai)細(xi)擦洗(xi)器(qi)皿內(nei)外(特別(bie)註意(yi)器(qi)皿內(nei)部，用(yong)無(wu)塵布裹(guo)住(zhu)手(shou)指(zhi)逐個(ge)摳(kou)洗(xi)幹(gan)凈(jing))後(hou)用(yong)自來(lai)水(shui)沖凈表面(mian)活(huo)性(xing)劑(ji)，並(bing)再(zai)用(yong)純凈水沖洗(xi)器(qi)皿內(nei)外3-4次(ci)。

3. 放(fang)入(ru)用(yong)純凈水沖凈的(de)大燒杯中(zhong)，加(jia)王(wang)水 (洗(xi)Teflon器(qi)皿專(zhuan)用(yong)王(wang)水和試(shi)劑(ji)均放在(zai)水(shui)槽(cao)旁(pang)的(de)超凈臺(tai)上，洗(xi)溶(rong)量(liang)彈(dan)Bomb專(zhuan)用(yong)王(wang)水和試(shi)劑(ji)放在(zai)超凈臺(tai)下的(de)儲物櫃(gui)中(zhong)！切(qie)勿(wu)拿(na)錯(cuo)！王(wang)水用(yong)量(liang)為(wei)超過器(qi)皿1-2 cm，擦(ca)拭(shi)幹(gan)燒(shao)杯底(di)部)，後(hou)置於電(dian)熱板120℃浸煮24小(xiao)時；

4. 將王(wang)水倒回王(wang)水專(zhuan)用(yong)瓶(ping)中(zhong)，用(yong)純凈水沖洗(xi)器(qi)皿內(nei)外3-4次(ci)，放(fang)入(ru)用(yong)純凈水沖凈的(de)大燒杯中(zhong)，加(jia)壹次(ci)1:1 HNO3 (HNO3用(yong)量(liang)為(wei)超過器(qi)皿1-2cm，擦(ca)拭(shi)幹(gan)燒(shao)杯底(di)部)，120℃浸煮24小(xiao)時；

5. 將1:1 HNO3倒回壹次(ci)1:1 HNO3專(zhuan)用(yong)瓶(ping)中(zhong)，用(yong)去純凈水沖洗(xi)器(qi)皿內(nei)外3-4次(ci)，放(fang)入(ru)用(yong)去純凈水沖凈的(de)大燒杯中(zhong)，加(jia)二次(ci)1:1 HNO3 (HNO3用(yong)量(liang)為(wei)超過器(qi)皿1-2cm，擦(ca)拭(shi)幹(gan)燒(shao)杯底(di)部)，120℃浸煮24小(xiao)時；

6. 將1:1 HNO3倒回二次(ci)1:1 HNO3專(zhuan)用(yong)瓶(ping)中(zhong)，用(yong)去純凈水沖洗(xi)器(qi)皿內(nei)外3-4次(ci)，加(jia)去離子(zi)水(shui)MQH2O(MQH2O用(yong)量(liang)為(wei)超過器(qi)皿1-2cm，擦(ca)拭(shi)幹(gan)燒(shao)杯底(di)部)，120℃浸煮12小(xiao)時。

7. 最後(hou)用(yong)去離子(zi)水(shui)沖洗(xi)器(qi)皿內(nei)外3-4次(ci)，置(zhi)於超凈臺(tai)中(zhong)風(feng)幹(gan)（送風2級(ji)）備(bei)用(yong)。註：清(qing)洗(xi)流(liu)程中(zhong)所指(zhi)的(de)“純凈水”均指國(guo)產的(de)純水裝置過(guo)濾(lv)而成；“去離子(zi)水(shui)”指MiliPore純水裝置過(guo)濾(lv)而成，只(zhi)能用(yong)於清(qing)洗(xi)器(qi)皿的(de)最後(hou)壹步和定(ding)溶(rong)及(ji)配(pei)制標液(ye)等(deng)；壹(yi)次(ci)1:1 HNO3由(you)反(fan)復(fu)使用(yong)5次(ci)的(de)二次(ci)1:1 HNO3降(jiang)級(ji)而(er)得(de)，用(yong)去離子(zi)水(shui)與(yu)GR級(ji)HNO3 按(an)1:1比(bi)例(li)配(pei)制；壹(yi)次(ci)1:1 HNO3反(fan)復(fu)使用(yong)5次(ci)後(hou)降為(wei)步驟1之(zhi)廢(fei)酸，加(jia)入工(gong)業用(yong)堿進(jin)行中(zhong)和(he)處理；壹(yi)次(ci)1:1 HCl由(you)去離子(zi)水(shui)與(yu)GR級(ji)HCl 按(an)1:1比(bi)例(li)配(pei)制，此(ci)酸反(fan)復(fu)使用(yong)10次(ci)後(hou)降為(wei)步驟1廢(fei)酸；二(er)次(ci)1:1 HNO3由(you)去離子(zi)水(shui)與(yu)GR級(ji) HNO3按(an)1:1比(bi)例(li)配(pei)制，此(ci)酸反(fan)復(fu)使用(yong)5次(ci)後(hou)降為(wei)壹(yi)次(ci)1:1 HNO3；二(er)次(ci)1:1 HCl由(you)去離子(zi)水(shui)與(yu)GR級(ji) HCl按(an)1:1比(bi)例(li)配(pei)制，此(ci)酸反(fan)復(fu)使用(yong)5次(ci)後(hou)降為(wei)壹(yi)次(ci)1:1 HCl。