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產(chan)品(pin)中(zhong)心(xin)同位(wei)素分(fen)析(xi)實驗(yan)耗(hao)材(cai)及設備酸(suan)純化器CH正紅痕量分(fen)析(xi)高(gao)純酸(suan)提(ti)純裝(zhuang)置
產(chan)品(pin)簡介
正紅痕(hen)量分(fen)析(xi)高(gao)純酸(suan)提(ti)純裝(zhuang)置又稱酸(suan)試劑提純器，高(gao)純酸(suan)蒸(zheng)餾純化器等，實驗(yan)室(shi)工(gong)作中(zhong)常(chang)常(chang)由(you)於(yu)酸(suan)的(de)純度較(jiao)差，造(zao)成分(fen)析(xi)結(jie)果(guo)的(de)偏差與(yu)錯誤。市售的(de)超(chao)純酸(suan)往(wang)往(wang)由(you)於(yu)價(jia)格較(jiao)貴，很難滿足(zu)日(ri)常(chang)分(fen)析(xi)中(zhong)對(dui)酸(suan)的(de)大量(liang)需(xu)求。因(yin)此，提(ti)純優化酸(suan)的(de)質(zhi)量(liang)，是(shi)為(wei)經濟可(ke)行(xing)的(de)途徑，我(wo)廠(chang)的(de)酸(suan)純化器可(ke)用於(yu)實驗(yan)室(shi)如(ru)HNO3、HCl、HF、堿溶(rong)液(ye)和(he)有(you)機溶劑(ji)的(de)純化，純化後的(de)酸(suan)和(he)Merck的(de)壹樣(yang)好(hao)，實驗(yan)後(hou)期可(ke)配套(tao)我單位(wei)Teflon特(te)氟龍系(xi)列(lie)器(qi)皿(min)。
產品(pin)分(fen)類(lei)
正紅痕(hen)量(liang)分(fen)析(xi)高(gao)純酸(suan)提(ti)純裝(zhuang)置
高(gao)純酸(suan)提(ti)純器：又稱酸(suan)純化系統(tong)，高(gao)純酸(suan)提(ti)純器，酸(suan)試劑提純器，高(gao)純酸(suan)蒸(zheng)餾純化器等，實驗(yan)室(shi)工(gong)作中(zhong)常(chang)常(chang)由(you)於(yu)酸(suan)的(de)純度較(jiao)差，造(zao)成分(fen)析(xi)結(jie)果(guo)的(de)偏差與(yu)錯誤。市售的(de)超(chao)純酸(suan)往(wang)往(wang)由(you)於(yu)價(jia)格較(jiao)貴，很難滿足(zu)日(ri)常(chang)分(fen)析(xi)中(zhong)對(dui)酸(suan)的(de)大量(liang)需(xu)求。因(yin)此，提(ti)純優化酸(suan)的(de)質(zhi)量(liang)，是(shi)經濟可(ke)行(xing)的(de)途徑，我(wo)廠(chang)的(de)酸(suan)純化器可(ke)用於(yu)實驗(yan)室(shi)如(ru)HNO3、HCl、HF、堿溶(rong)液(ye)和(he)有(you)機溶劑(ji)的(de)純化，純化後的(de)酸(suan)和(he)Merck的(de)壹樣(yang)好(hao)，實驗(yan)後(hou)期可(ke)配套(tao)我單位(wei)Teflon特(te)氟龍系(xi)列(lie)試劑瓶收取(qu)高(gao)純酸(suan)。
二、工(gong)作原理：
高(gao)純酸(suan)提(ti)純器是(shi)利(li)用熱(re)輻(fu)射(she)原理，保(bao)持液(ye)體(ti)溫度低於(yu)沸(fei)點(dian)溫(wen)度蒸(zheng)發(fa)，再(zai)將(jiang)其酸(suan)蒸(zheng)氣(qi)冷(leng)凝從(cong)而制備高(gao)純水和(he)高(gao)純試劑，廣泛應(ying)用於(yu)樣(yang)品(pin)處(chu)理及分(fen)析(xi)實驗(yan)中(zhong)。
三、我廠(chang)高(gao)純酸(suan)蒸(zheng)餾純化器優勢(shi)：
1、密閉環境(jing)下(xia)提(ti)純酸(suan)，不(bu)受(shou)環(huan)境汙染，確(que)保酸(suan)純度；
2、節約(yue)成本、方(fang)便實驗(yan):較(jiao)短(duan)時間(jian)內純化低成本的(de)酸(suan)試劑以達到(dao)痕量分(fen)析(xi)要求(qiu)；
3、可(ke)以(yi)滿足(zu)ICP、ICP-MS低(di)的(de)檢測限需(xu)要及苛刻的(de)分(fen)析(xi)應(ying)用中(zhong)提(ti)供(gong)實驗(yan)室(shi)級(ji)超(chao)純酸(suan)，所(suo)用容(rong)器(qi)均(jun)采(cai)用Teflon耐(nai)腐(fu)蝕(shi)無(wu)吸附(fu)塑料，可(ke)處(chu)理如(ru)HNO3、HCl、HF等實驗(yan)室(shi)的(de)常(chang)用酸(suan)；
4、實驗(yan)證明將(jiang)金(jin)屬雜質(zhi)含(han)量約(yue)10ppb的(de)酸(suan)經過(guo)壹次蒸(zheng)餾後(hou)，金(jin)屬雜質(zhi)含(han)量可(ke)以(yi)降低到0.01ppb左(zuo)右(you)。若對酸(suan)要求(qiu)更(geng)高(gao)，可(ke)增(zeng)加(jia)提純次數；
5、可(ke)拆(chai)卸(xie)清(qing)洗，避(bi)免(mian)腔體(ti)裏面(mian)長期(qi)提(ti)純，造(zao)成金(jin)屬雜質(zhi)含(han)量沈(chen)積越來(lai)越多，影響(xiang)提純的(de)質(zhi)量(liang)；
四(si)、相(xiang)關(guan)參數(shu)：
型號 | CH-I 500ml | CH-II 1000ml | CH-Ⅲ 2000ml |
名(ming)稱 | 高(gao)純酸(suan)提(ti)純器 | 高(gao)純酸(suan)提(ti)純器 | 高(gao)純酸(suan)提(ti)純器 |
產酸(suan)率(lv) | 30ml/h | 50ml/h | 70ml/h |
溫控(kong)方(fang)式 | PID溫控(kong)數顯(xian) | PID溫控(kong)數顯(xian) | PID溫控(kong)數顯(xian) |
控(kong)溫精(jing)度 | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ |
材(cai)質(zhi) | FEP、PTFE、矽膠 | ||
電(dian)壓(ya) | 220V/50Hz | ||
功率（W） | 350 | ||
優勢(shi) | 1.密閉環境(jing)下(xia)提(ti)純酸(suan)，不(bu)受(shou)環(huan)境汙染，確(que)保酸(suan)純度 | ||
2.純FEP、PTFE材(cai)質(zhi)制造(zao)，空(kong)白(bai)值(zhi)低(di)無(wu)腐蝕(shi) | |||
3.技(ji)術良(liang)好(hao)，結(jie)構合理，操(cao)作簡單，壹鍵(jian)式操作(zuo)，蒸(zheng)幹(gan)自(zi)我(wo)保護 | |||
4.提純過(guo)程中，會有(you)少量酸(suan)氣(qi)逸(yi)出(chu) | |||
五、使用註(zhu)意(yi)事(shi)項：
1、所(suo)有(you)配件(jian)（控(kong)制器(qi)、電(dian)源(yuan)線、加(jia)熱(re)片(pian)等(deng)除外(wai)）放(fang)入(ru)按(an)實驗(yan)要求(qiu)壹定濃(nong)度的(de)酸(suan)液(ye)中浸(jin)泡，去(qu)除雜(za)質(zhi)。
2、加(jia)酸(suan)前(qian)須(xu)做好(hao)個(ge)人防護如(ru)：防濺眼(yan)鏡、防酸(suan)手套(tao)等（蒸(zheng)水(shui)除外(wai)）。
實驗(yan)數(shu)據(ju)（僅(jin)供(gong)參考）：儀器：CH-I 高(gao)純酸(suan)提(ti)純器；試劑：優級(ji)純的(de)酸(suan)
蒸(zheng)餾後(hou)，經中國地質(zhi)大(da)學(xue)地質(zhi)過(guo)程與(yu)礦產(chan)資(zi)源國家重(zhong)點(dian)實驗(yan)室(shi)ICP-MS檢測出(chu)HF中(zhong)雜質(zhi)的(de)含(han)量：
元素 | 測量濃(nong)度（ng/g=ppb） | 元素 | 測量濃(nong)度（ng/g=ppb） |
Be | <0.01 | Ba | <0.01 |
Mg | <0.02 | La | <0.01 |
Sc | <0.01 | Ce | <0.01 |
V | <0.01 | Pr | <0.01 |
Cr | <0.03 | Nd | <0.01 |
Mn | <0.01 | Eu | <0.01 |
Co | <0.01 | Gd | <0.01 |
Ni | <0.01 | Tb | <0.01 |
Zn | <0.02 | Er | <0.01 |
Ga | <0.01 | Tm | <0.01 |
Rb | <0.01 | Yb | <0.01 |
Sr | <0.02 | Lu | <0.01 |
Zr | <0.01 | Hf | <0.01 |
Cd | <0.01 | Pb | <0.01 |
Sn | <0.01 | Th | <0.01 |
Cs | <0.01 | U | <0.01 |
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