高(gao)純(chun)酸蒸(zheng)餾(liu)裝(zhuang)置(zhi)HF蒸(zheng)酸(suan)儀2L透(tou)明(ming)PFA酸(suan)純(chun)化(hua)儀

 高(gao)純(chun)酸蒸(zheng)餾(liu)裝(zhuang)置(zhi)HF蒸(zheng)酸(suan)儀2L透(tou)明(ming)PFA酸(suan)純(chun)化(hua)儀

酸純(chun)化(hua)器(qi)：又稱酸純(chun)化(hua)系(xi)統(tong)，高(gao)純(chun)酸提(ti)純(chun)器(qi)，酸(suan)試劑(ji)提(ti)純(chun)器(qi)，高(gao)純(chun)酸蒸(zheng)餾(liu)純(chun)化(hua)器(qi)等(deng)，實(shi)驗室(shi)工(gong)作中(zhong)常(chang)常(chang)由(you)於酸的(de)純(chun)度(du)較(jiao)差，造(zao)成(cheng)分(fen)析(xi)結果(guo)的偏差與(yu)錯(cuo)誤(wu)。市(shi)售(shou)的(de)超純(chun)酸往往由(you)於較(jiao)貴，很難滿(man)足日(ri)常(chang)分(fen)析(xi)中(zhong)對(dui)酸(suan)的大(da)量(liang)需(xu)求(qiu)。因(yin)此(ci)，提(ti)純(chun)優化(hua)酸(suan)的(de)質量(liang)，是(shi)為(wei)經(jing)濟(ji)可(ke)行的(de)途徑，我(wo)廠的(de)酸(suan)純(chun)化(hua)器(qi)可(ke)用(yong)於實驗室(shi)如(ru)HNO3、HCl、HF、堿(jian)溶(rong)液(ye)和(he)有機溶劑(ji)的(de)純(chun)化(hua)，純(chun)化(hua)後的酸(suan)和(he)Merck的壹(yi)樣(yang)好(hao)，實驗後期(qi)可(ke)配套(tao)我(wo)單位(wei)Teflon特(te)氟(fu)龍(long)系列(lie)試劑(ji)瓶(ping)收(shou)取高(gao)純(chun)酸。

高(gao)純(chun)酸蒸(zheng)餾(liu)裝(zhuang)置(zhi)HF蒸(zheng)酸(suan)儀2L透(tou)明(ming)PFA酸(suan)純(chun)化(hua)儀

二、工(gong)作原理(li)：

酸純(chun)化(hua)器(qi)是(shi)利用(yong)熱輻(fu)射(she)原(yuan)理(li)，保(bao)持(chi)液(ye)體(ti)溫度(du)低(di)於沸(fei)點(dian)溫度(du)蒸(zheng)發，再(zai)將(jiang)其(qi)酸(suan)蒸(zheng)氣(qi)冷(leng)凝(ning)從而制(zhi)備高(gao)純(chun)水和高(gao)純(chun)試劑(ji)，應(ying)用(yong)於樣品(pin)處(chu)理(li)及分(fen)析(xi)實驗中(zhong)。

三(san)、  產(chan)品(pin)特(te)點(dian)：

1、可(ke)以滿(man)足ICP、ICP-MS低(di)的檢測(ce)限(xian)需(xu)要及苛刻(ke)的分(fen)析(xi)應用(yong)中(zhong)提(ti)供(gong)實驗室(shi)級(ji)超純(chun)酸，所(suo)用(yong)容器(qi)均(jun)采(cai)用(yong)Teflon無吸(xi)附(fu)塑(su)料，可(ke)處理(li)如HNO3、HCl、HF等實(shi)驗室(shi)的(de)常(chang)用(yong)酸。

2、實驗證(zheng)明(ming)將金屬雜質含量(liang)約10ppb的酸經過(guo)壹(yi)次蒸(zheng)餾(liu)後，金屬(shu)雜質含量(liang)可(ke)以降(jiang)低(di)到(dao)0.01ppb左(zuo)右。若對(dui)酸(suan)要求更(geng)高(gao)，可(ke)增加(jia)提(ti)純(chun)次數。

四、使(shi)用(yong)註(zhu)意(yi)事項：

1、所(suo)有配件（控制(zhi)器(qi)、電(dian)源(yuan)線、加熱片等除(chu)外(wai)）放(fang)入按(an)實(shi)驗要(yao)求(qiu)壹(yi)定濃(nong)度(du)的(de)酸液(ye)中(zhong)浸泡，去(qu)除(chu)雜質。

2、加酸(suan)前須(xu)做好(hao)個人防護(hu)如(ru)：防(fang)濺眼(yan)鏡、防酸手套(tao)等（蒸(zheng)水(shui)除(chu)外(wai)）。

【電(dian)子級(ji)酸(suan)】：

適(shi)用(yong)於半(ban)導體(ti)生產(chan)過(guo)程中(zhong)所(suo)用(yong)產(chan)品(pin)的(de)清洗(xi)和(he)蝕(shi)刻(ke)以及痕量(liang)金(jin)屬(shu)元素(su)殘留(liu)分(fen)析(xi)，根據(ju)質控的(de)金屬(shu)元素(su)含量(liang)的(de)數量(liang)和(he)含(han)量(liang)，劃(hua)分(fen)為(wei)4個級別：MOS級(ji)，VLSI級，ULSI級，SLSI級

MOS級（EL級）：控(kong)制(zhi)十(shi)多(duo)個金屬元素(su)，單項(xiang)金(jin)屬元素(su)雜質控制(zhi)在100PPb左(zuo)右

VLSI級：控(kong)制(zhi)三(san)十(shi)多(duo)個金屬元素(su)，單項(xiang)金(jin)屬元素(su)雜質控制(zhi)在10~100PPb

ULSI級(ji)：控制(zhi)三(san)十(shi)多(duo)個金屬元素(su)，單項(xiang)金(jin)屬元素(su)雜質控制(zhi)在10PPb以(yi)下

SLSI級：控制(zhi)三(san)十(shi)多(duo)個金屬元素(su)，單項(xiang)金(jin)屬元素(su)雜質控制(zhi)在1PPB以(yi)下

所(suo)謂(wei)的電子級(ji)酸(suan)，其(qi)實(shi)就(jiu)是ppb或(huo)者ppt級的高(gao)純(chun)酸。