拋(pao)光(guang)液用(yong)PFA燒(shao)杯(bei)耐腐(fu)蝕(shi)聚(ju)四氟(fu)燒(shao)杯(bei)帶刻度(du)

拋(pao)光(guang)液用(yong)PFA燒(shao)杯(bei)耐腐(fu)蝕(shi)聚(ju)四氟(fu)燒(shao)杯(bei)帶刻度(du)

PFA燒(shao)杯(bei)也被(bei)稱為(wei)可溶(rong)性聚(ju)四(si)氟(fu)乙烯燒(shao)杯(bei)，全氟(fu)烷(wan)氧基(ji)樹脂燒(shao)杯(bei)，其具備(bei)優(you)異(yi)的化(hua)學(xue)穩定性，以及(ji)熱(re)能穩(wen)定性等(deng)，廣(guang)泛(fan)應(ying)用(yong)於(yu)石油(you)化(hua)工(gong)，新(xin)材(cai)料新(xin)能源，半導體，同(tong)位素等(deng)行(xing)業(ye)中。

PFA燒(shao)杯(bei)金(jin)屬(shu)離子溶(rong)出(chu)低(di)（如(ru)鉛(qian)、鈾(you)含(han)量(liang)<0.01 ppb），適(shi)合(he)痕(hen)量(liang)元(yuan)素檢(jian)測(ce)，避免容(rong)器(qi)汙染影響實驗(yan)結果。

在(zai)腐(fu)蝕(shi)性(xing)環(huan)境下保(bao)持良(liang)好性能，耐(nai)受(shou)王水、氫(qing)氟(fu)酸(suan)、濃(nong)硫酸(suan)等強(qiang)腐(fu)蝕(shi)性(xing)試劑(ji)，適(shi)用(yong)於(yu)復(fu)雜(za)化(hua)學(xue)反(fan)應(ying)。

可在高(gao)低溫(wen)情況(kuang)下使(shi)用(yong)，在(zai)260℃以下，適(shi)用(yong)於(yu)聚合反(fan)應(ying)、催化(hua)實驗(yan)等。耐受-200至(zhi)260℃。

可替代傳(chuan)統石英(ying)容(rong)器(qi)，耐氫(qing)氟(fu)酸(suan)腐(fu)蝕(shi)且不易(yi)爆裂，用(yong)於(yu)矽片清洗。

在含(han)氟聚(ju)合(he)物、納米(mi)材料(liao)制(zhi)備中(zhong)作為(wei)反(fan)應(ying)容(rong)器(qi)。

PFA燒(shao)杯(bei)的特(te)點(dian)：化(hua)學(xue)穩定性：耐(nai)受(shou)強(qiang)酸(suan)、強(qiang)堿(jian)、有機(ji)溶(rong)劑，減少(shao)交叉汙染。耐溫(wen)性(xing)：-200℃至(zhi)+260℃寬溫(wen)域(yu)使(shi)用(yong)，適(shi)應(ying)特(te)殊(shu)實驗(yan)條件。低金(jin)屬(shu)離子溶(rong)出(chu)：確(que)保(bao)高(gao)純度(du)實(shi)驗(yan)的準確(que)性。透明(ming)可(ke)視(shi)：便(bian)於(yu)觀(guan)察(cha)實驗(yan)過(guo)程，提高(gao)操作安(an)全性(xing)。易(yi)清(qing)洗(xi)：表面(mian)光(guang)滑，滿足苛(ke)刻(ke)的痕(hen)量(liang)分(fen)析(xi)實驗需求(qiu)。

拋(pao)光(guang)液用(yong)PFA燒(shao)杯(bei)耐腐(fu)蝕(shi)聚(ju)四氟(fu)燒(shao)杯(bei)帶刻度(du)